光刻机是制作芯片的有必要设备，假如没有光刻机的话，一颗芯片的或许出产不出来。可是全球光刻机制作范畴一向都是国外企业说了算，日本的尼康，佳能和荷兰的ASML，尽管我国也有上海微电子，可是仍需尽力前行。
想要打破高端国产光刻机不是一朝一夕的事，有必要锲而不舍。将每一项核心技能逐个打破，好消息是，在光刻机的光源技能问题上，清华大学有了打破。
此前清华大学报告了一种“稳态微聚束”光源的首个原理验证试验，稳态微聚束全称为“Steady-state microbunching，SSMB”，这类光源具有高功率，频和窄带宽的特性，波长最高可掩盖EUV极紫外光波段，也便是波长为13.5nm光源。
这点是和荷兰ASML公司所出产的EUV光源是附近的，换言之，经过SSMB打破的EUV光源能够用于未来国产高端光刻机上，处理相应卡脖子的问题。
光刻技能的打破含义十分严重，尽管还需求整个工业链的协同前进，到达一致水准，才干完结自主高端光刻机的出产。但信任这一点迟早会到来。
3月8日，我国科技巨子上海新阳发布公告称，经过多方活跃洽谈，成功购得ASML-1400 光刻机并且完结交给。现在现已进入到协作场所，等候装置和调试，后续就能用于先进光刻胶验证。
此次上海新阳完结交给的光刻机十分要害，对半导体资料的光刻胶研讨验证有重要作用，可加速193nmArF干法光刻胶产品的研制。
光刻胶作为芯片制作不可或缺的资料，可维护晶圆不受损，经过将其涂改在晶圆上，进行曝光处理进一步将掩膜版的转移到基片上。然后保证后续工艺环节的进行，而光刻胶的质量也会直接影响到芯片制作良率。
上海新阳是国内半导体资料的佼佼者，也是继晶瑞股份之后，又一光刻机交给完结的我国巨子。不久之前中芯世界才宣告与ASML签订了12亿美元的订货协议，没想到这一次上海新阳就传来了ASML光刻机完结交给的好消息。
这对国产半导体工业链的开展是有促进作用的，信任有了此次到货的光刻机，再加上晶瑞股份，中芯世界等巨子进购光刻机的落地，投入出产线，一定会让我国芯片不断提速。
全球芯片商场迎来洗牌，一众半导体巨子都在加速自主研制的进展，包含欧美国家也开端注重芯片制作业的经济提高。相同的，我国芯片也“提速”了。
不断提速的我国芯片现已在光刻机设备、人才培养、企业扶持、应用技能的霸占和资源调度等方面全力出手。在全球芯片紧缺的情况下，国产半导体活跃运作，前有中科院机布局光刻机，后有清华大学打破光源技能。
别的我国芯片制作巨子中芯世界不光获得了供货商的答应，并且还进购了12亿美元的光刻机，只待到货投入出产。现如今上海新阳为了全力研制光刻胶产品，组织购买的光刻机也完结了交给。
一系列的好消息接二连三，我国芯片正不断提速，等待有朝一日也能传来自主高端技能全面打破的喜讯。
全球对芯片制作工业的注重十分高，光刻机、光刻胶、双工件台、曝光体系等等都是芯片制作工业链的重要组成部分。这是需求全工业链一同尽力，仅凭某些企业的打破还远远不够。
因而需求越来越多的半导体巨子参加进来，协同打破，完成整个国产半导体工业链的前进。只要这样，才不用站在他人的屋檐下，从此昂首阔步，展望未来。
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